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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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光栅干涉位移测量技术发展综述
王国超, 颜树华, 高雷, 谢学东, 田震
2010, 34(5): 661-664,716. doi: 10.3969/j.issn.1001-3806.2010.O5.023
关键词: 测量与计量, 位移, 光栅, 干涉条纹
灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究
杨智, 戴一帆, 颜树华
2004, 28(4): 406-409.
关键词: 空间光调制器, 灰度掩模, 工艺, 二元光学